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河南配方分析檢測機構：光刻膠配方分析
2024-12-25
光刻膠(又稱光致抗蝕劑)，是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性，其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料，被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。
(1)紫外負性膠配方
1.環(huán)化聚異戊二烯橡膠
主要原料：高聚物：環(huán)化聚異戊二烯橡膠。交聯劑：2,6-雙(4'-疊氮亞芐基)-4-甲基環(huán)己酮。溶劑：甲苯等芳香烴。添加劑：根據需要使用，包括少許增黏劑和防光暈染料。
2.聚乙烯醇肉桂酸酯
將精制的聚乙烯醇放入吡啶中溶脹，滴加由肉桂酸與二氯亞砜反應制得的肉桂酰氯進行酯化反應。經洗滌、過濾、干燥后，與配膠組成中的其余組分混合，即得光刻膠成品。
3.聚乙烯氧乙基肉桂酸酯
由氯乙醇分子間脫水制得二氯二乙基醚，然后在堿性條件下二氯二乙基醚脫一分子氯化氫，得到2-氯乙基乙烯基醚，2-氯乙基乙烯基醚再與肉桂酸鈉發(fā)生酯化，得到聚合單體，最后單體聚合得成品。
(2)紫外正性膠配方
主要原料：感光劑：2-重氮-1,2-萘醌-5-磺酰氯。成膜劑：成膜劑是正膠的基本成分，它對光刻膠的黏附性、抗蝕性、成膜性及顯影性均有影響，常用的為酚醛樹脂.
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